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用DC-PCVD装置对钢沉积Si_3N_4薄膜

吴大兴 , 杨川 , 高国庆

金属学报

控制工艺参数，用直流等离于化学气相沉积（DCPCVD）装置，对碳钢、合金结构钢、高速钢等沉积Si3N4非晶态薄膜，并研究了薄膜的成分、结构、形貌及硬度

关键词: 钢 , Si_3N_4 film , DC-PCVD